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NBM microPLD 脉冲激光沉积系统
技术参数:1. 靶:数量6个,大小1-2英寸,被激光照射时可自动旋转,靶的选择可通过步进电机控制。2. 基板:采用适合于氧气环境铂金加热片,大小2英寸,加热温度可达1200摄氏度,温度差
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Pioneer 180 PLD System脉冲激光沉积系统
沉积纳米级薄膜。•氧化膜沉积的氧相容性。•升级:离子辅助PLD,组合型PLD,目标衬底负载锁定。•其他沉积源:脉冲电子沉积(PED),射频/直流溅射,直流离子枪。•与XPS /ARPES特高压集群工具
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脉冲激光沉积系统180 Laser MBE/PLD
技术参数1.PLD腔尺寸:12 " /18 "直径(Pioneer 120-Advanced/ Pioneer 180型号)2.衬底尺寸:1厘米× 1厘米(激光加热器) ; 直径2”(辐射
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脉冲激光沉积系统Pioneer 120 PLD System
,过程压力,系统泵和激光触发。产品特点独立的交钥匙PLD系统。外延薄膜、多层异质结构和超晶格的沉积。纳米级薄膜的沉积。外延氧化膜沉积的可编程氧兼容加热器。自动多目标旋转多层沉积。全干式真空泵组。通过
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脉冲激光沉积系统 Pioneer 180 MAPLE PLD
基质辅助脉冲激光蒸发(MAPLE)是PLD的一种变体。这是由NRL集团引入的,以促进某些功能有机材料的薄膜沉积。基于UV (5-6 eV)的传统PLD技术可能不适用于这种情况,因为光化学
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组合型脉冲激光沉积系统 Combinatorial PLD System
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高级脉冲激光沉积系统 Pioneer 120 Advanced PLD System
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大尺寸脉冲激光沉积系统 Large-Area PLD Systems
、多层异质结构和超晶格的沉积•高温下氧化膜沉积的氧相容性•自动激光扫描厚度均匀性技术参数1.衬底尺寸:(直径)4 " (100mm),6 " (150mm)和8 " (200mn)2.PLD腔室尺寸
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离子辅助脉冲激光沉积系统 Ion-Assisted PLD System
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PLD 脉冲激光沉积系统检漏专用氦质谱检漏仪
脉冲激光沉积系统 PLD 需要检漏原因PLD 系统需要高真空环境, 腔室是否有泄露, 是否有内部材料放气等因素对实现高真空及超高真空很关键. 因此需要对整个系统进行泄漏检测. 氦质谱检漏仪利用
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